納米二氧化硅磨料拋光液

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納米二氧化磨料拋光液由高純納米二氧化硅等多種復(fù)合材料配置而成，通過高科技術(shù)分散成納米顆粒，分散均勻的納米拋光液，具有高強度、高附著力、成膜性好、高滲透、高耐候性、高耐磨性等特點，是一種性能優(yōu)良的CM P技術(shù)用的拋光材料.

技術(shù)指標：
外觀 白色液體
型號 VK-S01P
固含量，% 30
pH值 6-8
平均原生粒徑， nm 20-50

納米二氧化磨料拋光液應(yīng)用特性：
1、拋光速率快，利用分散均勻大粒徑的膠體二氧化硅等粒子達到高速拋光的目的
2、高純度，拋光液不腐蝕設(shè)備，使用的安全性能高。
3、高平坦度加工，本品拋光是利用SiO2等材料的均勻納米粒子，不會對加工件造成物理損傷，達到高平坦化加工
4、有效有效減少拋光后的表面劃傷，降低拋光后的表面粗糙度。

應(yīng)用范圍：
1、可用于微晶玻璃的表面拋光加工中。
2、用于硅片的粗拋和精拋以及IC加工過程，適用于大規(guī)模集成電路多層化薄膜的平坦化加工。
3、用于晶圓的后道ＣＭＰ清洗等半導(dǎo)體器件的加工過程、平面顯示器、多晶化模組、微電機系統(tǒng)、光導(dǎo)攝像管等的加工過程。
4、廣泛用于CMP化學機械拋光，如：硅片、化合物晶體、精密光學器件、硬盤盤片、寶石等納米級及亞納米級拋光加工。
5、本產(chǎn)品可以作為一種添加劑，也可應(yīng)用于水性高耐候石材保護液、水性膠粘劑與高耐候外墻涂料等領(lǐng)域。

納米二氧化磨料拋光液使用注意事項：
1、 本品放置時間長后，若有少量沉淀屬于正常現(xiàn)象，用攪拌機攪拌均勻不影響使用。
2、 如有產(chǎn)品變稠現(xiàn)象，是二氧化硅本身的特性，可以按照與水1:1的比例稀釋，攪拌均勻后再使用。
3、 密閉，干燥陰涼處儲存，避免太陽直射。

包  裝：25kg/桶